Artfilのレジスト開発方針
ArtfilではFLEX:現在のFPDフォトマスク環境で使用できるレジストを活用したお客様の要望に合わせた品質改善を行うレジスト開発と、DSR:DSWの最高性能を引き出すレジスト開発を両立して参ります。
FPDマスク用レジストの理想と現実
新レジスト設計コンセプト
CD制御性向上(Range,MTM)
課題の解決を目指し
「高感度且つ高解像度」のレジストを開発
TOP vew
Bird vew
Side vew
期待される効果
CD uniformity
Dry etching 形状
断面形状
Holo形状(0.8um)
その他の取扱製品
