PHOTORESISTレジスト
ArtfilではFLEX:現在のFPDフォトマスク環境で使用できるレジストを活用したお客様の要望に合わせた品質改善を行うレジスト開発と、DSR:DSWの最高性能を引き出すレジスト開発を両立して参ります。
PHOTORESIST
レジスト
ArtfilではFLEX:現在のFPDフォトマスク環境で使用できるレジストを活用したお客様の要望に合わせた品質改善を行うレジスト開発と、DSR:DSWの最高性能を引き出すレジスト開発を両立して参ります。
描画機(β機・デモ機)