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描画機(β機・デモ機)

製品・技術紹介

製品情報


描画デバイスDigital Micro mirror Device (DLP9500UV)
光源(波長)LED(405nm)
対物レンズ0.5um / 0.72um / 1.0um
ヘッドユニット数2
描画方式スキャニング描画(ステージ連続移動)
グレースケールBSI(Binary Shot Integration) 256階調
オートフォーカスHeight-Map AF, Scanning AF

開発テーマ項目


描画システム光学ヘッドユニット
(高精度光学システム、マルチヘッド/スキャニング描画、etc.)
測長システム位置制御
(リアルタイム姿勢制御、6軸補正、AF機構、etc.)
データハンドリング高速データ処理、各種補正機能
(CD/座標位置補正、PSI機能、etc.)

当社プロダクトの強み BSI(Binary Shot Integration)

最新のデジタル技術を用いたArtfil独自の描画技術

描画機(β機・デモ機)

データハンドリング

その他の取扱製品

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